【摘 要】
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<正>化学光谱法测定超痕量金,在金矿化探工作中被普遍应用。由于方法的灵敏度高,在测定过程中应十分重视沾污。作者发现,溶样时使用陈旧的排风系统,常会引入沾污,有时还会造
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<正>化学光谱法测定超痕量金,在金矿化探工作中被普遍应用。由于方法的灵敏度高,在测定过程中应十分重视沾污。作者发现,溶样时使用陈旧的排风系统,常会引入沾污,有时还会造成很严重的后果。 1 沾污的来源与产生 王水溶解含金矿样后,生成的HAuCl_4在150～220℃时呈气态挥发。挥发部分容易附着在通风柜内壁,如果长期不注意清除,在处理样品的过程中,遇到通风柜受震、自然风回灌下落的尘埃、水蒸气遇冷凝结成水珠下滴等掉入样品溶液中,即造成严重沾污。 作者曾用痕量金标准物质GAu 1-16中的部分样品,
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