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在熔石英元件表面溅射一层厚度小于10nm的金属铜膜污染物，并测试元件的透过率。测试355nm熔石英元件的激光损伤阈值，并用光学显微镜观测损伤形态。实验结果表明：污染后的熔石英元件的损伤阈值降低20％左右，元件表面的金属污染物薄膜经强激光辐照，在熔石英表面形成很多坑状微损伤，分布不均的热应力导致表面起伏，并有明显的烧蚀现象，导致基底损伤阈值下降。建立的光吸收和热沉积传输模型初步解释污染物膜层导致熔石英元件损伤的机理。