【摘 要】
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应用脉冲激光沉积（PLD）技术,固定脉冲激光能量密度为5J/cm2,调节薄膜生长基底温度为300700℃,制备了系列MgxNi1-xO合金薄膜。通过透射电子显微镜（TEM）、X射线光电子能谱（XPS）、原子
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
【基金项目】
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中国工程物理研究院精密制造实验室创新基金项目(ZZ16007)
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应用脉冲激光沉积（PLD）技术,固定脉冲激光能量密度为5J/cm2,调节薄膜生长基底温度为300700℃,制备了系列MgxNi1-xO合金薄膜。通过透射电子显微镜（TEM）、X射线光电子能谱（XPS）、原子力显微术（AFM）等表征分析手段,详细分析了薄膜的成分及组织,研究了退火处理对样品的影响。通过UVVis分光光度计研究了透射光谱,结合理论计算了光学带隙宽度。结果表明:薄膜由非晶及多晶构成,紫外吸收边约为290nm,接近日盲波段的上限;衬底温度为500℃、激光脉冲能量密度为5J/cm2时生长的薄膜在短波部分吸收强烈,而长波部分几乎不吸收,有利于紫外探测;退火处理改善了样品表面质量,但不能有效拓宽光学带隙。
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