中阶梯光栅刻划误差要求分析

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中阶梯光栅作为高色散和高分辨率光学器件,已经广泛的应用于大型光谱仪器之中。在中阶梯光栅的刻划过程中,存在刻划误差,这将严重影响光栅衍射性能,最终使得衍射效果产生缺陷。针对此情况,定量分析了中阶梯光栅的刻划误差对衍射光谱、衍射级次、波前误差、鬼线强度、杂散光强度的影响以及提出了一种*.k85-射效率角度分析刻划误差的方法。在满足一定条件下,求得上述因素对应的刻划误差分别为:1265.8nm、352nm、37nm、112nm、3.4nm。这对光栅刻划时限定刻划机的刻划精度提供了直接和重要的参考。
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