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采用微波等离子体化学气相沉积系统在钛／硅基板上沉积类金刚石薄膜，并利用拉曼光谱仪、扫瞄式电子显微镜及原子力显做镜研究了氢等离子体前处理及快速退火后处理对类金刚石薄膜场发射特性之影响。在沉积类金刚石薄膜之前，钛／硅基板使用了两种前处理技术：第一种为研磨金刚石粉末，第二种为研磨金刚石粉末后外加氢等离子体刻蚀处理。成长类金刚石薄膜后进行快速退火处理。发现不论是氢等离子体前处理还是快速退火后处理皆能改善场发射特性，其中经退火后处理的场发射特性比氢等离子体前处理的场发射特性改善更明显。其因之一在于快速退火后处理可在