【摘 要】
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据EETimes网站报道,英特尔斥资30亿美元建造的一座12英寸芯片厂近日正式投产,这是英特尔首座采用45纳米工艺的大规模芯片制造厂。这座代号为Fab 32的工厂坐落于美国亚利桑那
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据EETimes网站报道,英特尔斥资30亿美元建造的一座12英寸芯片厂近日正式投产,这是英特尔首座采用45纳米工艺的大规模芯片制造厂。这座代号为Fab 32的工厂坐落于美国亚利桑那州Chandler市,2005年开始动工兴建,当时预计在2007年第二季度投产。Intel最先进的45nm生产中引入
According to EETimes website reported that Intel spent 3 billion US dollars to build a 12-inch chip plant recently formally put into operation, this is Intel’s first 45-nanometer process using large-scale chip manufacturing plant. The plant, code-named Fab 32, is located in Chandler, Ariz., And started construction in 2005 when production was expected in the second quarter of 2007. Intel introduced the most advanced 45nm production
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