注射成型掺酞菁铟反饱和吸收材料的研究

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反饱和吸收是指介质的吸收系数随输入光强的增加而增大的一种现象[1].反饱和吸收材料在全光开关、光计算与通信以及光限幅和光稳幅等光电子领域中都有着广泛的应用前景[2~5].酞菁类化合物以其较大的非共振三阶极化率、内在的快速响应和良好的化学和热稳定性倍受关注[6,7].目前所研究的反饱和吸收材料多是溶液和薄膜样品,在实用化方面存在较大困难,并且一些反饱和吸收性能好的酞菁化合物在溶剂中易于分解,给薄膜制备和溶液的稳定带来了困难.本文采用注射成型方法将酞菁铟掺杂到聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中,研究了样品的反饱和
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