【摘 要】
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公开号 ＣＮ１１８８８１７Ａ 申请人 ＭＥＭＣ电子材料有限公司 地址 美国密苏里州 一种用于清洗硅体和可控地降低覆盖在硅基底上的二氧化硅厚度的方法。该方法包括在超声场的存在下，使用稀释
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公开号 ＣＮ１１８８８１７Ａ 申请人 ＭＥＭＣ电子材料有限公司 地址 美国密苏里州 一种用于清洗硅体和可控地降低覆盖在硅基底上的二氧化硅厚度的方法。该方法包括在超声场的存在下，使用稀释的蚀刻剂化学蚀刻二氧化硅层。蚀刻剂的浓度小于给定的温定下的扩散速
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