【摘 要】
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在一个改进了的电镀槽中将金属钌沉积于不同的基体上,由于使用1mol/LRu及4～10mol/LH_2SO_4生成的一种络合物而使这种电镀槽的操作稳定。这种槽中还含有少量的Ni、Co、Fe、Sn
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在一个改进了的电镀槽中将金属钌沉积于不同的基体上,由于使用1mol/LRu及4～10mol/LH_2SO_4生成的一种络合物而使这种电镀槽的操作稳定。这种槽中还含有少量的Ni、Co、Fe、Sn、Pb或Mg,最好控制电镀液pH1～2.4。 电镀槽中最好含2～10g/LRu作为络合物成分,控制碱量使其pH为1～2.2,并含有0～10g/L(最好0.03～10g/L)镍、钴、铁、锡、铅或镁的硫酸
The deposition of metallic ruthenium on different substrates in an improved electroplating bath stabilizes the operation of such electroplating baths due to the use of a complex formed with 1 mol / L Au and 4 - 10 mol / LH 2 SO 4. This tank also contains a small amount of Ni, Co, Fe, Sn, Pb or Mg, the best control of the plating bath pH1 ~ 2.4. The electroplating bath preferably contains 2 to 10 g / L Ru as the complex component and the alkali amount to be controlled to 1 to 2.2 and 0 to 10 g / L (preferably 0.03 to 10 g / L) of nickel, cobalt, iron, Tin, lead or magnesium sulfate
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