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针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si／SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出了表面离子辅助沉积（IAD）硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0．5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示：IAD-Si膜层为非结晶结构，能够提供较好的抛光表面，在77-673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机理为依据，对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试，给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能