【摘 要】
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一、概况离子镀膜技术是真空蒸发和真空溅射相结合的全新镀膜技术。1963年,美国Sandia公司首先提出离子镀膜的原理,1967年7月,在美国获得了专利权。从此,表面处理技术中又增
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一、概况离子镀膜技术是真空蒸发和真空溅射相结合的全新镀膜技术。1963年,美国Sandia公司首先提出离子镀膜的原理,1967年7月,在美国获得了专利权。从此,表面处理技术中又增加了一个新的术语——离子镀膜。离子镀膜始于原子能工业中对铀防腐的研究,并以无公害而优越于电镀。因此,它一出现就受到了人们的重视。
I. Overview Ion coating technology is a combination of vacuum evaporation and vacuum sputtering a new coating technology. In 1963, the United States Sandia first proposed ion plating principle, in July 1967, obtained a patent in the United States. Since then, surface treatment technology has added a new term - ion plating. Ion coating began in atomic energy industry uranium corrosion research, and pollution-free and superior to electroplating. Therefore, it is valued by people as soon as it appeared.
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