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影响半导器件生产的的因素有很多,而硅单晶电阻率不均匀性就是众多衡量硅材料质量参数中的一个。电阻率对后道加工器件的稳定和重复性,甚至器件的质量参数指标都有很大的关联。硅单晶电阻率均匀性的指标要求也随着半导体器件的加工日益精细化,因此,从国标中径向电阻率几种不同的选点方案入手分析几种方式的异同。
不同选点方案下硅单晶薄层径向电阻率变化
【摘 要】
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影响半导器件生产的的因素有很多,而硅单晶电阻率不均匀性就是众多衡量硅材料质量参数中的一个。电阻率对后道加工器件的稳定和重复性,甚至器件的质量参数指标都有很大的关联
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
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2017年06期
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