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采用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2／SiO2纳米多层膜，用椭偏仪测试了薄膜的厚度和折射率。黑体实验研究表明，TiO2／SiO2纳米多层膜在800nm-1600nm区域内对红外线的吸收较好，且吸收率随着温度的升高而增大。红外光谱研究表明，TiO2／SiO2纳米多层膜在2300cm^-1-2900cm^-1区域内对红外线的吸收较好。