【摘 要】
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用热丝化学汽相淀积 (HFCVD)法在硅衬底上生长具有纳米晶粒结构的碳化硅薄膜 .用X射线光电子谱仪 (XPS)、X射线衍射 (XRD)、傅里叶红外吸收光谱 (FTIR)、紫外光 Raman散射谱
【机 构】
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用热丝化学汽相淀积 (HFCVD)法在硅衬底上生长具有纳米晶粒结构的碳化硅薄膜 .用X射线光电子谱仪 (XPS)、X射线衍射 (XRD)、傅里叶红外吸收光谱 (FTIR)、紫外光 Raman散射谱和高分辨透射电子显微镜 (HRTEM)对薄膜样品进行了结构和组分分析 ,并在室温条件下观察到了薄膜的高强度可见光发射 .
A silicon carbide thin film with nanocrystalline structure was grown on a silicon substrate by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) method. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), Fourier transform infrared The structure and composition of the films were analyzed by FTIR, Raman scattering and HRTEM. High intensity visible light emission was observed at room temperature.
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