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研究了引进自控温室荷兰黄瓜叶片、茎蔓生长规律及与温室气候环境的关系。结果表明，与黄瓜茎蔓、叶片生长进程关系最密切的因子为１２～２５℃有效积温；叶片生长对温度反应呈非线性，１３～１９节位出叶所需１２～２５℃有效积温最少，平均每长１叶仅需１０．６～１０．９℃有效积温，比定植～５叶期少１／２以上。其他各节位每出１叶所需积温分别是定值～５叶为２９．１℃，５～１０叶为１５．３℃，１０～１５叶为１１．３℃，１