Bi2212体系的层间耦合对临界电流密度的影响

来源 :低温物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：galadelong

【摘要】

：

通过对具有不同层间耦合强度的Bi2212单晶样品的磁滞回线的测量,得到了样品的临界电流密度Jc随层间耦合强度和磁场的变化关系.实验结果显示,样品的层间耦合减弱, Jc明显减小.

【作者】

：

冯双久陈春霞李广李晓光

【机构】

：

安徽大学物理与材料科学学院,中国科技大学合肥微尺度物质科学国家实验室

【出处】

：

低温物理学报

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

耦合强度磁场变化关系对数磁滞回线临界电流密度势垒钉扎单晶测量 interlayer coupling critical current de

【基金项目】

：

国家自然科学基金，国家重点基础研究发展计划(973计划)

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通过对具有不同层间耦合强度的Bi2212单晶样品的磁滞回线的测量,得到了样品的临界电流密度Jc随层间耦合强度和磁场的变化关系.实验结果显示,样品的层间耦合减弱, Jc明显减小.同时发现Jc与磁场间存在Jc∝exp(-Hα)关系,进一步分析表明,Jc的这种磁场依赖关系是对数钉扎势垒模型的必然结果.

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