【摘 要】
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通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究
【机 构】
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上海交通大学信息存储研究中心微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术国家教委部门开放研究实验室!上海200030,上海交通大学信息存储研究中心微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术国家教
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通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。
Through the X-ray deep lithography process on the 3W 1 beam line of Beijing Institute of High Energy, we obtained the photoresist and metal microstructure with a smooth and steep sidewall, a thickness of 1000 μm and an aspect ratio of 20 , Which indicates that this beamline is suitable for the research of LIGA technology.
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