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当前我国微电子工业对超净高纯试剂的质量要求
当前我国微电子工业对超净高纯试剂的质量要求
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Monking
【摘 要】
:
以双氧水为例列举了国内电路生产厂家对杂质和颗粒的要求,同时指出当前我国电路生产处于超大规模集成电路阶段,而超净高纯试剂的生产则只能满足大规模集成电路的需要,VLSI级试剂主要
【作 者】
:
葛继三
何禄宽
【机 构】
:
天津市化学试剂三厂
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
高纯试剂
芯片
VLSI
集成电路
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以双氧水为例列举了国内电路生产厂家对杂质和颗粒的要求,同时指出当前我国电路生产处于超大规模集成电路阶段,而超净高纯试剂的生产则只能满足大规模集成电路的需要,VLSI级试剂主要依赖进口,急需实现国产化。
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