氧化-削尖自对准多层金属栅的工艺研究

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真空平板显示器的底板主要由场发射阴极和金月栅极构成。本文报告了TI-W-Au三层金属栅极代替过去的铝栅,解决了栅与绝绝层SiO_2的附着问题和金属离子迁移问题而又便于压焊引线,本文报告了氧化削尖对准工艺解决了栅阴套准的问题。 The bottom of the vacuum flat panel display is mainly composed of the field emission cathode and the gold moon grid. This paper reports the TI-W-Au three-metal gate instead of the past aluminum gate, solves the problem of adhesion between the gate and the over-layer SiO 2 and the problem of metal ions migration but also facilitates the bonding of the lead. In this paper, The process solves the problem of grid registration.
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