High Rate Growth of a-Si and μc-Si Thin Films with Facing-target PECVD

来源 :材料科学与工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：milo999

【摘要】

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［1］J. Zhao, A. Wang, M. A. Green and F. Ferrazza, Appl.Phys. Lett. 73 (1998), 1991.［2］Kenji Yamamoto, Masashi Yoshimi et al., Proc. MRS Spring Meeting, 1998.［3］H S Ch

【作者】

：

F.M.Zhang

【出处】

：

材料科学与工程学报

【发表日期】

：

2000年z2期

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［1］J. Zhao, A. Wang, M. A. Green and F. Ferrazza, Appl.Phys. Lett. 73 (1998), 1991.［2］Kenji Yamamoto, Masashi Yoshimi et al., Proc. MRS Spring Meeting, 1998.［3］H S Choi, K H Jang and M K Han, Solid Statc Phenomena Vols. 51-52 (1996), pp149.［4］R B. Bergman

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