【摘 要】
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采用射频磁控溅射方法,分别在纯Ar和Ar,He混合气氛下制备了多个不同调制周期的Cu/W纳米多层膜.利用增强质子背散射(EPBS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分别对Cu/W多
【机 构】
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四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,
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采用射频磁控溅射方法,分别在纯Ar和Ar,He混合气氛下制备了多个不同调制周期的Cu/W纳米多层膜.利用增强质子背散射(EPBS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分别对Cu/W多层膜中He含量、截面形貌和相结构进行了分析.结果表明:多层膜的界面稳定性是耐氦损伤的前提和保证.在适当的调制周期下,纳米多层膜能有抑制氦泡成核及长大的能力.
A series of Cu / W multilayers with different modulation periods were fabricated by RF magnetron sputtering in pure Ar, Ar and He mixed atmospheres, respectively. , X-ray diffraction (XRD) were used to analyze the content of He, the cross-sectional morphology and the phase structure of Cu / W multilayers respectively.The results show that the interfacial stability of multilayers is the prerequisite and guarantee for the damage of He- Modulation cycle, nano-multilayer film can inhibit the helium bubble nucleation and growth ability.
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