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尽管在45nm技术节点上，绝大部分的芯片制造商都将采用侵没式光刻技术，但是对于32nm而言，哪一种技术才是最佳选择目前还没有定论。其中，一种可能的解决方案就是采用高折射率材料进一步延伸浸没式光刻技术的使用寿命。然而，之前针对这项技术的研究并不乐观。
LuAG高折射率材料获得突破性进展
【摘 要】
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尽管在45nm技术节点上，绝大部分的芯片制造商都将采用侵没式光刻技术，但是对于32nm而言，哪一种技术才是最佳选择目前还没有定论。其中，一种可能的解决方案就是采用高折射率材料进
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2008年5期
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