用正电子湮没技术研究a-Si:H/a-SiN_x:H多层膜中的界面缺陷

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【摘要】

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【作者】

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王志超滕敏康刘吟春

【出处】

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物理学报

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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多层膜界面区 a-Si:H/a-SiN_x:H 界面缺陷正电子湮没技术

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