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ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ是制作光电器件与微波器件的重要材料。离子注入ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ做掺杂或制作高阻层是人们十分关注的研究课题。采用Ｆｅ＾＋注入ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ得到了电阻率升高的好结果。用Ｂｅ＾＋注入制作了新结构ＨＰＴ的基区。研制成功了在１．５５μｍ波长工作的ＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ新结构光电晶体管，在０．３μＷ入射光条件下，光电增益为３５０。