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提出了用氧化锡作为起伏层制作双薄膜型场发射显示器件，成功得到均匀稳定的发射，提供了一种以简单热蒸发工艺制造成本低廉的场发射平板显示器件的方法。在试验了薄膜的发射特性的基础上，成功制作了一个小型SED平板显示阴极阵列。介绍了阵列的结构和制作方法。为制作小型SED显示器件积累了经验。
基于氧化锡和碳复合薄膜的表面传导场发射显示阵列的制作
【摘 要】
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提出了用氧化锡作为起伏层制作双薄膜型场发射显示器件，成功得到均匀稳定的发射，提供了一种以简单热蒸发工艺制造成本低廉的场发射平板显示器件的方法。在试验了薄膜的发射特性
【机 构】
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清华大学电子系
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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2007年5期
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