【摘 要】
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通过RF磁控溅射在不同溅射气压环境中,在石英衬底上制备得到Li-W共掺杂ZnO薄膜(LWZO).对样品进行X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透过率以及电阻率的测试.结果表明:适当溅射
【机 构】
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景德镇陶瓷学院机械电子工程学院 江西 景德镇333000
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通过RF磁控溅射在不同溅射气压环境中,在石英衬底上制备得到Li-W共掺杂ZnO薄膜(LWZO).对样品进行X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透过率以及电阻率的测试.结果表明:适当溅射气压环境下,有助于提高LWZO薄膜的结晶质量;SEM结果显示随着溅射气压增加LWZO薄膜表面晶粒粒径更小,表面更平整;薄膜的透光率保持在85％左右.光致发光光谱表明:LWZO的光致发光由本征发光及缺陷发光组成,结晶度高以及择优取向好,本征发光强度强.同时,薄膜的最低电阻率也达到了6.9×10-3Ωcm.
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