辐射改性对铅/铜高分子辐射屏蔽材料性能的影响

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采用熔融共混和电子加速器辐射改性方法,制备了以高分子材料乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)为基底、铅粉和铜粉为填料的高分子辐射屏蔽材料。综合该材料的力学性能、电性能、辐射屏蔽性能以及交联度的表征结果,可以得出:在EVA中添加质量分数为20%的铜粉和30%的铅粉,采用熔融共混法在110℃下共混,并给予材料50kGy的辐射剂量照射,可制得综合性能良好的高分子屏蔽材料。其中,该材料在接受辐照后的抗拉强度达到12.25MPa;表面电阻率为1.8434×10^13Ω,相较纯EVA下降了两个数量级;对241Am
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