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关键面积研究方法是集成电路可制造性（DFM）领域的重要研究内容。对主流关键面积研究方法进行了综述与分析，讨论了Monte Carlo方法、多边形算子方法、Voronoi图方法的优缺点；对亚波长光刻阶段关键面积研究面临的挑战进行了分析与探讨。
集成电路关键面积研究方法的发展与挑战
【摘 要】
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关键面积研究方法是集成电路可制造性（DFM）领域的重要研究内容。对主流关键面积研究方法进行了综述与分析，讨论了Monte Carlo方法、多边形算子方法、Voronoi图方法的优缺点；对亚
【机 构】
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西安电子科技大学微电子学院
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2009年5期
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