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建立了光学元件在真空环境下的激光损伤测量系统，采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了HfO2／SiO2高反射薄膜。对不同工艺制备的薄膜在真空与大气环境下的1064nm波长的激光损伤阈值进行了测量，对薄膜的损伤形貌进行了观测。对薄膜的损伤特性研究分析结果表明：薄膜在真空环境中的损伤阈值相对大气环境中有明显下降，其1：1测试和R：1测试损伤阈值下降约30％；两种环境中的薄膜损伤特性也不同，真空环境中损伤阈值的下降可能与热传导的不同有关。