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无论是溶铜工序制造的新鲜溶液，还是电解工序返回的溶液，它们都有可能受到其他杂质的污染。为防止杂质对电解过程造成危害，在它们再次进入电解槽之前，就必须将它们通过净化工序除去。对于铜箔电解工艺而言，一般可以分为有机物污染和金属杂质污染两大类。有机物污染主要是指溶液中的胶质、油脂等；金属杂质主要是指溶液中含有对电沉积有不利影响的As,Sb,