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本文在前人的基础上，继续改进酸腐蚀工艺来优化多晶硅的腐蚀深度和反射率，利用紫外反射光谱仪测量相应腐蚀深度下的反射率，并用扫描电子显微镜（SEM）观察相应腐蚀深度下的表面形貌特性，同时跟踪其效率，寻找更优的多晶硅绒面效果。
利用酸腐蚀工艺优化多晶硅绒面
【摘 要】
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本文在前人的基础上，继续改进酸腐蚀工艺来优化多晶硅的腐蚀深度和反射率，利用紫外反射光谱仪测量相应腐蚀深度下的反射率，并用扫描电子显微镜（SEM）观察相应腐蚀深度下的表面形貌
【机 构】
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英利能源（中国）有限公司
【出 处】
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城市建设理论研究（电子版）
【发表日期】
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2004年期
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