研究HT机器参数电子枪电流IC、电子枪电压IV和磁控管脉冲PFN的改变对射线质(D20/D10)及射野横截面剂量分布(Profile)的影响规律，以提高对剂量稳定性的QC。
方法改变IC 、IV和PFN值，采用电离室和TomoDose分别测出各情况下的射线质和Profile，对射线质数据进行Pearson法相关分析，对Profile数据进行比较分析。
结果对于射线质：IV和PFN与射线质均无相关性(P>0.05)，IC与射线质有强相关性(P＝0.007)且随IC增大能量比降低。对于x方向上的Profile：(1)主射野区域(－200～200 mm)，随IC增大Profile肩区明显呈规律性上升；IV从6.42 V增大到6.54 V时Profile无变化，IV＝6.60 V时Profile肩区上升到最高点，之后Profile随IV增大而下降；随PFN增大Profile肩区明显呈规律性下降；(2)半影区(±200 mm以外的区域)，IC、IV和PFN对Profile都无影响。对于y方向上的Profile：(1)主射野区域(－20～20 mm)，IC取5.40和5.46 V时在离轴距<16 mm区域内Profile才可见上升趋势，但整体上Profile肩区随IC增大而上升；IV和PFN对Profile无影响；(2)半影区(±20 mm以外区域)，Profile随IV增大规律性下降，IC和PFN对Profile无影响。3个参数在主射野区域对Profile影响显著程度大小依次为IC、PFN和IV，半影区对Profile有影响的只有IV。
结论调节射线质时应以IC值为主，PFN作为辅助进行微调；调节Profile时主射野区域应以调节IC为主、IV为辅，半影区的调节只涉及到y方向Profile，应调节IV。研究结果对射线质和Profile的QC具有指导性作用，能减少QC的盲目性，节省时间。