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用MonteCarlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布
用MonteCarlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:feng_zj
【摘 要】
:
在大型薄膜生产设备中,膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Monte-Carlo方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法,计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响,并
【作 者】
:
黄士勇
曲凤钦
【机 构】
:
烟台大学物理系
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
1999年5期
【关键词】
:
膜厚分布
磁控溅射器
MONTE-CARLO法
薄膜
Distribution of thin film thickness
Monte Carlo metho
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在大型薄膜生产设备中,膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Monte-Carlo方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法,计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响,并把计算结果与实际测量进行了比较。
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