用MonteCarlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布

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在大型薄膜生产设备中,膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Monte-Carlo方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法,计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响,并把计算结果与实际测量进行了比较。
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