【摘 要】
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结合传统的混合酸腐蚀法与Ni辅助腐蚀法,在多晶硅表面制备了减反射复合结构。研究了Ni溅射时间对多晶硅表面反射率、形貌以及光致发光性能的影响。用分光光度计测量了多晶硅
【机 构】
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南京航空航天大学材料科学与技术学院; 南京航空航天大学纳米智能材料器件教育部重点实验室;
【基金项目】
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国家自然科学基金(61176062);江苏省高校优势学科建设工程资助课题
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结合传统的混合酸腐蚀法与Ni辅助腐蚀法,在多晶硅表面制备了减反射复合结构。研究了Ni溅射时间对多晶硅表面反射率、形貌以及光致发光性能的影响。用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率,用扫描电镜观察了表面形貌,并用光致发光仪测试了表面的光致发光谱。研究发现,经过混合酸腐蚀与Ni辅助腐蚀的共同作用后,在多晶硅表面形成了一种附有细小针柱状微结构的"U"形腐蚀坑的复合结构,理论和实验分析表明这种复合结构具有良好的陷光效果。当溅射Ni的时间为500s时,双重腐蚀后的多晶硅表面在300～900nm波长范围内的平均反射率最低,仅为10.1%。
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