【摘 要】
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二元络合剂化学镀铜体系相较于一元络合体系,因增大了对沉积反应的调控空间而备受关注,稳定剂是二元体系的重要组分之一,当前关于稳定剂在二元络合体系中的作用规律系统性研
【机 构】
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北京科技大学钢铁冶金新技术国家重点实验室,北京化工大学常州先进材料研究院,湖南理工学院化学化工学院
【基金项目】
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常州市科技计划(CJ20180014)
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二元络合剂化学镀铜体系相较于一元络合体系,因增大了对沉积反应的调控空间而备受关注,稳定剂是二元体系的重要组分之一,当前关于稳定剂在二元络合体系中的作用规律系统性研究较少。本研究以2,2′-联吡啶为乙二胺四乙酸(EDTA)/四羟丙基乙二胺(THPED)化学镀铜二元络合体系为稳定剂,测试了体系的电化学特征和镀层结构的变化规律。基于活性离子的吸附差异,化学镀铜的二元络合体系混合电位分为诱导、过渡和稳定三个反应过程,发现2,2′-联吡啶使体系的混合电位值负向移动的趋势放缓。线性伏安法扫描数据表明,由于2,2′-联
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