退火对射频磁控溅射氧化锌薄膜性能的影响

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采用射频磁控溅射技术在SiO2/Si上淀积高C轴取向的ZnO薄膜,在氧气和氩气的混合气氛、不同温度(400~900℃)下进行快速热退火处理。利用X-射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对薄膜结构、形貌与界面状态性能进行了分析。研究结果表明,ZnO薄膜的晶粒尺寸随着退火温度的升高而增大,衍射峰强度增强,峰位随之偏移;SEM分析显示薄膜呈柱状生长,表现出较好的C轴取向性;TEM分析表明ZnO与下电极Pt是呈共格生长,晶格匹配很好。
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