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提高CVD金刚石薄膜刀具膜—基附着力的工艺方法评述
提高CVD金刚石薄膜刀具膜—基附着力的工艺方法评述
来源 :工具技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:honeysword
【摘 要】
:
提高金刚石薄膜与硬质合金基底之间的附着力是CVD金刚石薄膜刀具得以推广应用的关键因素.本文介绍了国内外采用CVD法制备金刚石薄膜刀具时提高膜-基附着力的典型工艺方法,评
【作 者】
:
满卫东
汪建华
【机 构】
:
武汉化工学院430073
【出 处】
:
工具技术
【发表日期】
:
2001年9期
【关键词】
:
刀具
金刚石薄膜
膜一基附着力
化学气相沉积
CVD
tool
diamond film
WCCo substrate
filmsubstrate adhesi
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提高金刚石薄膜与硬质合金基底之间的附着力是CVD金刚石薄膜刀具得以推广应用的关键因素.本文介绍了国内外采用CVD法制备金刚石薄膜刀具时提高膜-基附着力的典型工艺方法,评述了WC-Co基底预处理及沉积工艺对CVD金刚石薄膜与基底之间附着力的影响.
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