【摘 要】
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探讨了U 薄膜的制备方法。主要介绍了机械抛光、电解抛光、机械轧制、磁控溅射沉积、离子束辅助沉积和聚焦离子束方法等,涉及了精细U 薄膜的制备要求。同时,简要介绍了防止U
【机 构】
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中国工程物理研究院,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院 四川 绵阳 621900,四川 绵阳 621900,四川 绵阳 621900
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探讨了U 薄膜的制备方法。主要介绍了机械抛光、电解抛光、机械轧制、磁控溅射沉积、离子束辅助沉积和聚焦离子束方法等,涉及了精细U 薄膜的制备要求。同时,简要介绍了防止U 薄膜氧化的后处理手段。
The preparation method of U film was discussed. Mainly introduces the mechanical polishing, electrolytic polishing, mechanical rolling, magnetron sputtering deposition, ion beam assisted deposition and focused ion beam method, involving the preparation of fine U-film requirements. At the same time, a brief description of the post-treatment measures to prevent the oxidation of U thin film is given.
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