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采用原子嵌入势,用元胞自动机方法模拟了铁（001）面上的薄膜生长.研究了溅射原子的沉积、迁移扩散和再蒸发3个主要的过程.发现溅射功率和基底温度对薄膜表面所形成岛核的形态影响很大,定量计算了当溅射功率和基底温度变化时岛的均匀度.给出了对于实验有指导意义的结论.
磁性薄膜生长的元胞自动机模拟
【摘 要】
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采用原子嵌入势,用元胞自动机方法模拟了铁（001）面上的薄膜生长.研究了溅射原子的沉积、迁移扩散和再蒸发3个主要的过程.发现溅射功率和基底温度对薄膜表面所形成岛核的形态影
【机 构】
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华中科技大学电子科学与技术系
【出 处】
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信息记录材料
【发表日期】
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2006年5期
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