【摘 要】
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采用脉冲偏压电弧离子镀技术沉积了CrN薄膜,并考察了在不同偏压下薄膜的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性.随着偏压的增加, CrN薄膜表面颗粒逐渐变少,表面粗糙度降低,结晶
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采用脉冲偏压电弧离子镀技术沉积了CrN薄膜,并考察了在不同偏压下薄膜的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性.随着偏压的增加, CrN薄膜表面颗粒逐渐变少,表面粗糙度降低,结晶度增大,偏压为-100 V的CrN薄膜具有致密的表面结构,较高的硬度,最佳的抗磨性能.
CrN thin films were deposited by pulsed bias arc ion plating and the surface morphology, phase structure, microhardness and wear resistance of the films were investigated under different bias voltages. As the bias voltage increased, CrN thin film with less surface roughness, higher crystallinity and bias voltage of -100 V has dense surface structure, high hardness and best wear resistance.
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Occurrence and damage of