【摘 要】
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近年来,高性能电解铜箔被广泛应用于电子行业和锂电池行业等。在铜箔的制备和生产过程中,添加剂对铜箔组织性能产生较大影响。因普通添加剂暴露的问题多,已较难满足新产品的
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近年来,高性能电解铜箔被广泛应用于电子行业和锂电池行业等。在铜箔的制备和生产过程中,添加剂对铜箔组织性能产生较大影响。因普通添加剂暴露的问题多,已较难满足新产品的需求,为进一步提升产品,需开发性能更优越的添加剂。文章先总结了普通添加剂对电解铜箔组织性能的影响,有无机类的氯离子,有机类的聚醚类化合物、含硫类化合物和明胶等。在此基础上,对新型添加剂对电解铜箔组织性能的优化进行探讨:第一、6.0mg/L硫酸铈盐可均匀细化晶粒,改善铜箔力学性能。第二、聚二硫二丙烷磺酸钠-羟乙基纤维素-钨酸钠复合添加剂能使铜晶面向
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