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国外光刻设备市场概况发展趋势(续)
国外光刻设备市场概况发展趋势(续)
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:saya1989
【摘 要】
:
<正> 泛。对于给定的分辨率来说。其焦深远比紫外大得多。IBM公司最早将此技术应用于Perkin-Elmer公司的扫描投影光刻机上;西德的Karlsuss也早已有市售的准分子激光接触/接近
【作 者】
:
童志义
【机 构】
:
机电部四十五所744000甘肃平凉
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1991年4期
【关键词】
:
光刻设备
半导体器件
市场
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<正> 泛。对于给定的分辨率来说。其焦深远比紫外大得多。IBM公司最早将此技术应用于Perkin-Elmer公司的扫描投影光刻机上;西德的Karlsuss也早已有市售的准分子激光接触/接近式光刻机。而最引人注目的就是GCA公司于1988年推出的第一台商品化准分子激光步进
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