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密闭电解槽在钴电积上的产业化应用
密闭电解槽在钴电积上的产业化应用
来源 :有色金属(冶炼部分) | 被引量 : 0次 | 上传用户:muyanger280
【摘 要】
:
应用密闭电解槽技术的2000t/a电钴生产线已运行4年。与隔膜电解槽的工艺指标及成本比较结果表明,密闭电解槽具有良好的技术经济指标,避免了氯气泄漏,改善现场作业环境,吨钻成本降
【作 者】
:
王振文
张爱青
江培海
尹飞
阮书锋
姚志超
【机 构】
:
北京矿冶研究总院,江苏凯力克钴业股份有限责任公司
【出 处】
:
有色金属(冶炼部分)
【发表日期】
:
2013年5期
【关键词】
:
密闭电解槽
氯化钴
钴电积
应用
closed electrolytic cell
cobalt chloride
cobalt electrowinnin
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应用密闭电解槽技术的2000t/a电钴生产线已运行4年。与隔膜电解槽的工艺指标及成本比较结果表明,密闭电解槽具有良好的技术经济指标,避免了氯气泄漏,改善现场作业环境,吨钻成本降低1.1万元。
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