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目前，在WN中加入Al制备多元复合膜的研究国内外报道较少。通过射频磁控溅射法，以不同Al靶功率在Si（100）和TC4合金上制备了不同Al含量的W-Al—N复合膜。采用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪（CSM）、摩擦磨损试验机、高温氧化试验研究了W-Al-N复合膜的微结构、力学性能、摩擦磨损性能及高温抗氧化性能。结果表明：随着Al含量的增加，W-Al-N复合膜的择优取向发生变化，（111）和（220）衍射峰逐渐消失，复合膜主呈（200）择优取向生长；复合膜的硬度先增加后减小，当Al含量为32．4