【摘 要】
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利用:EELS和AES原位研究了室温下在O2气氛中金属Ti和铀表面Ti膜初始氧化过程中表面结构的变化。结果表明,金属Ti和Ti膜表面氧化层由Ti(固溶O),TiO,Ti2O3和TiO2组成。Ti膜的氧
【机 构】
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利用:EELS和AES原位研究了室温下在O2气氛中金属Ti和铀表面Ti膜初始氧化过程中表面结构的变化。结果表明,金属Ti和Ti膜表面氧化层由Ti(固溶O),TiO,Ti2O3和TiO2组成。Ti膜的氧化速度比金属Ti更快。金属Ti和Ti膜氧化时,在真空室内充O2至6.5 ×10-7-6.5×10-6 Pa条件下,可形成Ti(固溶O),TiO,Ti2O3和TiO2,以岛状形式生长,多种氧化态并存。其氧化过程为Ti→Ti(固溶O)→TiO→Ti2O3→TiO2。
The change of surface structure during the initial oxidation of Ti film on the surface of Ti and uranium in O2 atmosphere at room temperature was studied by EELS and AES. The results show that the oxide layer on the surface of Ti and Ti films consists of Ti (solid solution O), TiO, Ti2O3 and TiO2. The Ti film oxidizes faster than the metal Ti. In the oxidation of metal Ti and Ti films, Ti (solid solution O), TiO, Ti2O3 and TiO2 can be formed under the condition of O2 in the vacuum chamber to 6.5 × 10-7-6.5 × 10-6 Pa, A variety of oxidation state co-exist. The oxidation process is Ti → Ti (solid solution O) → TiO → Ti2O3 → TiO2.
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