电压和时间对铝铜铸造合金微弧氧化膜层的影响

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在硅酸盐体系中,分别在不同的电压(450、500和550 V)下对4组试样进行不同时间(20、40、60和80 min)的微弧氧化实验,并结合试样生成膜层的厚度、硬度、耐蚀性能及SEM分析,探索不同电压和时间对Al-Cu系铸造合金表面微弧氧化陶瓷膜层的影响。结果表明,在550 V电压下,微弧氧化60 min时,材料表面获得最佳的微弧氧化膜层。 In the silicate system, 4 groups of samples were subjected to MAO at different times (20, 40, 60 and 80 min) at different voltages (450, 500 and 550 V) Film thickness, hardness, corrosion resistance and SEM analysis to explore the different voltage and time on the Al-Cu cast alloy surface MAO ceramic film. The results show that under the voltage of 550 V, the micro-arc oxidation of the material surface obtained the best micro-arc oxidation coating.
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