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膜和基体之间的结合强度是评价膜层质量的一项重要指标,镁合金等离子体电解氧化生成的类陶瓷层具有较好的结合力,但大量研究并未对膜层的结合机理进行深入的探讨。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法对氧化膜的相组成和形貌特征进行研究,着重对膜层的结合机理进行分析和探讨。结果表明,微弧区瞬间的高温高压大大促进了孔壁附近膜里的氧和镁离子、铝离子间相互扩散,PEO膜层与基体的结合机理可以理解为7台金结合;XRD分析表明膜层并不存在碳和钠的化合物相,表明碳原子和钠原子并没有直接参与成膜反应,它们应该是通过沉积