目的 对比研究自研制剂与原研制剂的杂质谱和杂质水平,初步探索罗红霉素的降解机理。方法 采用HPLC考察原研和自研制剂的有关物质,通过LC-MS定位EP系统适用性对照品的11种杂质,进而利用LC-MS对2种制剂的有关物质进行辅助结构确证。进行原研和自研制剂的强制降解实验,通过HPLC对比研究两者的主要降解途径,并利用LC-MS初步鉴定降解杂质的结构。结果 原研制剂检出的主要杂质为杂质F、杂质G、杂质H、杂质I,其中最大单杂为杂质G,含量为0.439%,自研制剂检测到杂质C、杂质D、杂质H、杂质I、杂质J,其中最大单杂为杂质C,含量为0.196%。原研制剂在碱、高温、光照条件下较稳定,强酸条件下主要产生杂质B、杂质D,强氧化条件下生成的杂质未能归属到EP系统适用性对照品的11种杂质中,已通过质谱确定分子量,推测可能为罗红霉素N氧化物。自研制剂主要降解途径及产生的杂质与原研制剂一致。2种制剂加速实验有关物质均无明显变化。结论 由于国产原料药和进口原料药的差异,自研制剂与原研制剂杂质谱不完全一致,自研制剂的杂质水平低于原研制剂。罗红霉素主要降解途径为水解、异构化和N的氧化,分别产生杂质B、D以及N氧化杂质(m/z=853.531 8)。