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化学汽相淀积(CVD)技术述评
化学汽相淀积(CVD)技术述评
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:maldininikanjun
【摘 要】
:
CVD技术是当前最重要,最基本的半导体器件和集成电路制造技术之一。本文以介质膜的CVD为重点进行了概要的分析,其中包括对CVD介质膜的要求,CVD的反应机理及各种反应室的演变,
【作 者】
:
李松法
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1989年2期
【关键词】
:
CVD
半导体工艺
化学汽相淀积
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CVD技术是当前最重要,最基本的半导体器件和集成电路制造技术之一。本文以介质膜的CVD为重点进行了概要的分析,其中包括对CVD介质膜的要求,CVD的反应机理及各种反应室的演变,CVD介质膜的杂质、应力及其覆盖能力。最后对导体材料的CVD作了简单的描述。
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