【摘 要】
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为了研究溅射工艺对金属镀膜塑料结合力的影响，以PS塑料为基底，采用磁控溅射工艺，通过设计L9（3^4）正交试验，在不同本体真空度、不同靶基间距、不同溅射功率、不同溅射时间下对PS塑
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为了研究溅射工艺对金属镀膜塑料结合力的影响，以PS塑料为基底，采用磁控溅射工艺，通过设计L9（3^4）正交试验，在不同本体真空度、不同靶基间距、不同溅射功率、不同溅射时间下对PS塑料进行镀铬，然后对镀膜塑料进行结合力测试，分磁控溅射工艺参数对结合力的影响。实验结果表明：PS塑料基底在真空室本体真空度为1．1×10^-2Pa，靶基间距为70mm，溅射功率为800W，溅射时间为120S的条件下，基膜结合力最为理想。
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